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该研究工作利用了XANES等技术分析了富含缺陷的四氧化三钴的化学环境，接参从而证明了其中氧缺陷的存在及其相对含量。然而大部分研究论文仍然集中在使用常规的表征对材料进行分析，场交一些机理很难被常规的表征设备所取得的数据所证明，场交此外有深度的机理的研究还有待深入挖掘。

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